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  • 產品名稱: 裝飾鍍膜機
  • 上架時間: 2016-04-28
  • 瀏覽次數: 665

裝飾鍍鍍膜機

采用AIP電弧離子鍍和中頻磁控濺射技術

磁控靶:同軸定向圓柱靶或平面靶

獲得更高鍍膜質量,更好的表面光潔度、膜層致密性、耐腐蝕性等

技術參數:

真空室內尺寸:φ1350x1500

             φ1600x1350

極限真空度:5×10-4Pa

空恢時間:大氣抽到6.7×10-3Pa≤20min

壓升率:≤0.5Pa/h

占地空間:L3.9×W4.8×H2.5m3

裝機容量:約300Kw

主要配置:

弧源:6/8/10/14套(φ95小弧源)

離子源:霍爾離子源(選配)

中頻磁控陰極:4對(選配)

使用溫度:200~350℃

工件架:行星公自轉結構

真空室冷卻方式:水套、水槽冷卻

控制方式:PLC/觸摸屏控制

進氣控制:4路

脈沖偏壓:40KW

弧電源:160/200A

真空系統配置:

高真空泵:F-3600分子泵   

         或 KT-600擴散泵

預抽泵: 2XT-70旋片泵   

        RTO-300羅茨泵   

維持泵:2XT-70旋片泵 或 2XT-30旋片泵    

    

公司所生產的真空鍍膜機均采用觸摸屏和PLC計算機自動控制系統。系統分為手動和自動兩種控制方式,可隨時任意切換。對設備的運行參數進行實時監控顯示,保證了涂層質量的重復性。設備均設有完備的互鎖保護和報警功能,控制系統存儲器可儲存多套工藝參數,免除了每次切換工藝,工藝人員都需要重新輸入工藝參數的工作。

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